應用領域：

Table PVD-15 一款小(xiao)型(xing)電阻蒸發鍍膜(mo)儀，主要特點是設備(bei)體積小(xiao)，結構(gou)簡單緊湊(cou)易(yi)于操作， 適(shi)用于實驗室制備(bei)金屬單質膜、 半導體(ti)膜、鈣鈦礦太陽能電池、鋰電池、有機膜等，也可(ke)用作教(jiao)學(xue)及生產線前期工藝試驗等。 

 可鍍制低(di)熔點金屬及(ji)合金材(cai)料薄(bo)膜，單層 / 多層 / 復合(he)膜，（ Au, Ag, Al, Ca, Cu, Mg, Cr,Ni 等(deng)）；鍍制非金屬 / 化合物 等材料薄膜（ Mo03, LiF） 等；有機材(cai)料等蒸發；太陽(yang)能(neng)電池、LED 的研究和實驗；描電(dian)鏡制樣等。

基本配置： 

◆真(zhen)空腔室(shi)：Φ250mm(ID) x 300mm(H) 

◆真空系統(tong)：機械泵 + 分(fen)子(zi)泵兩級真(zhen)空(kong)系(xi)統 前級泵：VRD-16 機械泵(beng)，抽速：4L/S 主抽(chou)泵(beng)：分子泵(beng)，抽(chou)氣速率：300L/S 主抽(chou)閥(fa)：CCQ-100 超(chao)高真空氣動(dong)插板閥(fa)， 

◆極限(xian)真空：<5×10-5Pa 

◆恢復真空：<6.7×10-4Pa(< 45 min) 

◆真空測量：“兩(liang)低一高” 數(shu)顯復合(he)真空計 

◆蒸 發 源：2 組金屬蒸發源；（標(biao)配） 最(zui)多 2 個有(you)機束源爐源；（選配） 

◆蒸發(fa)電(dian)(dian)源(yuan)：采用恒(heng)壓、恒(heng)流(liu)真空鍍(du)膜(mo)電(dian)(dian)源(yuan)， 最大(da)功率 2.4KW，電流調節精度：0.01A 

◆樣品臺(tai)：可容納樣品最大尺寸：3 英寸(cun)樣品托一個 , 配擋(dang)板(ban)，轉速 0-30rpm 連續(xu)可調(diao) ; 樣(yang)品可加熱控溫， 溫度范圍：室溫 -300℃，控溫精度 ±0.5℃； 

◆系統(tong)控制：10 英寸觸摸屏 +PLC 控制(zhi)（可選手動(dong)按(an)鈕控制(zhi)）

◆工(gong)作氣體 : 干燥壓縮空(kong)氣、氮氣 

◆電 源 : 單(dan)相 220V , 50Hz, 16A 

◆冷(leng) 凍 水 :18-25℃ , 1L/min，壓力 < 0.4MPa

選擇配置： 

◆樣(yang)品臺可水(shui)冷，采(cai)用直接式水(shui)冷形式，水(shui)冷不控溫(wen) 

◆全量程(cheng)真空(kong)計（ Inficon） 

◆速(su)率 / 膜厚(hou)監控測儀（SQM-160） 

◆可(ke)選進口蒸發電源 

系(xi)統要求標準(zhun)配置： 

◆真空腔(qiang)室(shi)：Φ250mm(ID) x 300mm(H) 

◆真空系統(tong)：機械泵 + 分子泵兩級真空系統 前級泵：VRD-16 機械泵，抽速：4L/S 主抽(chou)泵：分(fen)子泵，抽(chou)氣速率：300L/S 主抽(chou)閥(fa)：CCQ-100 超高真空氣動插板閥， ◆極限真空：<5×10-5Pa 

◆恢復(fu)真空：<6.7×10-4Pa(< 45 min) 

◆真(zhen)空測量：“兩(liang)低一高” 數顯復合真空(kong)計 

◆蒸 發(fa) 源：2 組金屬蒸發源(yuan)；（標配(pei)） 最多 2 個有機束源爐源；（選配） 

◆蒸發電(dian)源：采用(yong)恒壓、恒流真空鍍膜(mo)電(dian)源， 最(zui)大功率 2.4KW，電流(liu)調節精度：0.01A 

◆樣(yang)品(pin)臺：可容(rong)納(na)樣(yang)品(pin)最大(da)尺寸：3 英寸樣品托一個 , 配擋板，轉速 0-30rpm 連續可調 ; 樣品可加熱控溫， 溫度范圍：室溫 -300℃，控溫精(jing)度(du) ±0.5℃； 

◆系(xi)統控制：10 英寸觸摸屏 +PLC 控(kong)制（可選手動按鈕控(kong)制）