MiniLab-30T PVD 薄膜沉積系統
應用領域:
適合蒸鍍對氧較敏感的(de)金屬膜( 如 Al、Au、Ag、Cu 等),也可(ke)蒸(zheng)鍍(du)各種氧化(hua)物材(cai)料(liao)。可(ke)實現對有機(ji)材(cai)料(liao)的蒸(zheng)發鍍(du)膜,可(ke)滿 足發光器件 如(ru) OLED(有機(ji)發(fa)光(guang)二極管)。及有機(ji)太陽能電(dian)池方面的(de)研究要求,是一款鍍膜效果理想且性(xing)價(jia)較(jiao)高的(de)實驗設備。 可鍍制低熔點金(jin)屬及合(he)金(jin)材料薄膜,單層 / 多層(ceng) / 復(fu)合膜(mo),( Au, Ag, Al, Ca, Cu, Mg, Cr,Ni 等);鍍制非金屬(shu) / 化(hua)合物等 材(cai)料薄膜( Mo03, LiF) 等(deng);有機(ji)材料(liao)等(deng)蒸發(fa);太陽能電池、LED 的研(yan)究和(he)實驗;描電(dian)鏡(jing)制樣(yang)等
基本配置:
◆真(zhen)空腔室:350×400mm 不銹鋼 D 形腔(qiang)體(ti)。前門鉸鏈方便(bian)真空室清理;腔(qiang)室底板,頂部和側面裝(zhuang)有(you)腔(qiang)室內硬件(jian)接(jie)口;前 門(men)上配(pei)直徑(jing) 80 玻璃(li)觀(guan)察窗(含(han)手動(dong)防污染擋板、可拆洗(xi)防污玻璃(li));腔體可選擇(ze)水冷。
◆抽氣系(xi)統: 采用復合分子泵 + 直(zhi)聯旋片泵作為真空(kong)抽(chou)氣(qi)系(xi)統(tong); 主(zhu)抽泵:分子泵抽速≥ 600L/S,氮(dan)氣壓縮比≥ 109 ; 前級泵:VRD-24 機械泵及電(dian)磁閥,抽速(su):6L/S 主抽閥(fa): CCQ-150 超(chao)高真空氣(qi)動插板閥
* 真空系(xi)統可以升級(ji)為進口(kou)分子(zi)泵和(he)渦(wo)旋干泵。
◆真(zhen)空(kong)測(ce)量:數顯復合真(zhen)空(kong)計: “兩低一(yi)高”全量程數顯復合真空(kong)計;
* 真空(kong)測(ce)量(liang)可以(yi)升級為進口(kou)全量(liang)程冷陰極真空(kong)計
◆極限真(zhen)空:<5×10-5Pa ◆恢復真空:<6.7×10-4Pa(< 45 min) ◆熱蒸發(fa) / 有機物蒸發源: 最多(duo) 4 組金(jin)屬蒸發(fa)源,水冷電極和盒式防(fang)污染蒸發(fa)源;(可選配置) 最多(duo) 4 個有機(ji)束源(yuan)爐,采用(yong)氧化鋁或石(shi)英坩堝(2CC)(可(ke)選配(pei)置)
◆蒸發電(dian)源:采(cai)用(yong)恒壓、恒流真空(kong)鍍膜電(dian)源,最大輸(shu)出(chu)功率 2.4Kw; 電流調節精度 0.01A,電壓調節(jie)精度 0.01V,數量:2 臺
◆樣品臺:可(ke)容納(na)樣品最大尺(chi)寸:4 英(ying)寸樣品托一個 , 配擋板,轉(zhuan)速 0-30rpm 連續(xu)可調(diao) ; 樣(yang)品可加熱控溫, 溫度范(fan)圍(wei):室溫 -600℃,控溫精度(du) ±0.5℃;
◆系統控制:10 英寸觸摸屏 +PLC 控(kong)制(可選(xuan)手動按(an)鈕)
選擇配(pei)置:
◆樣品臺可水冷,采用(yong)直接式(shi)水冷形式(shi),水冷不(bu)控溫
◆速率 / 膜厚(hou)監(jian)測儀(yi)(SQM-160) 薄膜鍍層(ceng)控制儀(SQC-310)
◆可(ke)選進(jin)口蒸發電(dian)源 ◆全量程真(zhen)空計 (Inficon)
◆樣品托 : 不銹鋼、鋁(lv)或銅,基片盤(pan)上有螺紋孔。
系統要(yao)求標準(zhun)配置:
◆工藝氣體 :25psi,純度(du) 99.99% 以上
◆工(gong)作氣體 : 干燥壓縮空(kong)氣、氮(dan)氣
◆電 源(yuan) : 單相 220V, 50Hz,32A
◆冷 凍 水(shui) :18-25℃ , 3L/min,壓力 <0.4MPa