DH2008 系列微波 CVD 薄膜制備裝置
本裝置由公司和武漢工(gong)程大學聯合(he)研(yan)制(zhi),由微波(bo)源、真(zhen)空系(xi)統、供氣系(xi)統、微波(bo)傳輸及(ji)(ji)微波(bo)諧振腔等部分組成。適合(he)大學近(jin)現代物理(li)、材料、化(hua)學等領域進(jin)行微波(bo) CVD 原理(li)與方法的(de)教學、研(yan)究(jiu),金剛石與類金剛石薄膜制(zhi)備(bei)實驗及(ji)(ji)科學研(yan)究(jiu),以及(ji)(ji)用于生(sheng)長碳(tan)納米管、氮化(hua)硅、碳(tan)化(hua)硅等超硬膜,具有生(sheng)長速度(du)快、操作簡便、性價比高等優點。同時可完成等離(li)子體刻蝕加工(gong)實驗、微波(bo)等離(li)子體表面改性等實驗。
技術參數
上一個:沒有了!
下一個:直流輝光等離子體實驗裝置