DHDP& DHIP 系列 射頻 CCP/ICP 薄膜沉積裝置
本裝置由我公司和中科院固體(ti)物理(li)研究所聯合研制(zhi)。設備主要(yao)由薄(bo)膜沉積室、真空抽氣系統、氣源進氣調(diao)節系統、襯底加熱溫度(du)控(kong)制(zhi)系統等部分組成。
主要實驗內容
1、硅材料在薄膜太陽能電池上的應用(yong)；
2、硅系(xi)納(na)米復合(he)薄膜材料(liao) PCVD 法制備；
3、等離子體(ti)化學氣(qi)相沉積制備各種功能薄膜。
技術參數
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